案例硅晶片激光加热的疑问

云云树木

  硅晶片激光加热的案例中，定义广义向内热通量 为 “emissivity*hf(x,y,t)”，
请教大家，这应该是定义的热源吧，和辐射系数emissivity有什么关系呢？hf(x,y,t)又是什么意思呢？
请大家指点，非常感谢。

青橄榄树

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wangdongdong

物质的发射率等于吸收率，这是最基本的物质性质。另外函数是高斯函数组成的光功率密度函数吗？不太清楚这个案例。俺是新手。