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[优化理论] SiO2膜层的可变角椭圆偏振光谱(VASE)分析

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发表于 2023-5-8 09:45:54 | 显示全部楼层 |阅读模式 来自 上海
摘要

可变角度椭圆偏振光谱仪(VASE)是一种常用的技术,由于其对光学参数的微小变化具有高灵敏度,而被用在许多使用薄膜结构的应用中,如半导体、光学涂层、数据存储、平板制造等。在本用例中,我们演示了VirtualLab Fusion中的椭圆偏振分析器在二氧化硅(SiO2)涂层上的使用。对于系统的参数,我们参考Woollam等人的工作 "可变角度椭圆偏振光谱仪(VASE)概述。I. 基本理论和典型应用",并研究该方法对轻微变化的涂层厚度有多敏感。



任务描述



镀膜样品
关于配置堆栈的更多信息。
利用界面配置光栅结构
一般光栅组件能够对周期性结构进行建模。在各向同性的情况下,使用一个非常小的周期,以确保只有0阶会传播。二氧化硅层也是根据参考文献来定义的。
- 涂层厚度:10纳米
- 涂层材料。二氧化硅
- 折射率:扩展的Cauchy模型。

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